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金宏气体：高纯二氧化碳主要应用于半导体清洗等工艺环节_蜘蛛资讯网

bsp;  证券日报网4月21日讯，金宏气体在接受调研者提问时表示，高纯二氧化碳主要应用于半导体清洗等工艺环节；氧化亚氮主要用于薄膜沉积、化学气相沉积等核心制程环节。

盛迪医药有限公司收到国家药品监督管理局核准签发关于HRS9531注射液的《药物临床试验批准通知书》，将于近期开展临床试验。原文链接

nbsp;   证券日报网4月21日讯，金宏气体在接受调研者提问时表示，高纯二氧化碳主要应用于半导体清洗等工艺环节；氧化亚氮主要用于薄膜沉积、化学气相沉积等核心制程环节。

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发布时间：19:11:21